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真空镀膜时为什么要用到高纯气体时间：2023-10-26 在真空镀膜过程中使用高纯度气体有几个关键的原因： 减少杂质影响： 高纯度气体通常指纯度较高、杂质含量较低的气体。在镀膜过程中，使用高纯度气体可以减少杂质对薄膜质量的影响。即使微小的杂质也可能对薄膜的纯度和性能产生不利影响，因此高纯度气体的使用可以最大限度地减少这种可能性。 防止污染： 某些气体中可能存在有害的杂质，例如水分、氧气或其他气体成分，它们可能对薄膜沉积过程产生不利影响，导致薄膜的污染或不均匀性。高纯度气体有助于减少这些杂质的存在，保持沉积过程的纯净性。 控制薄膜成分和质量： 高纯度气体的使用可以更好地控制薄膜的成分和质量。一些特定的薄膜材料或化合物需要严格控制气氛中的气体成分才能实现特定的沉积效果，高纯度气体可以提供更精确的反应条件。 防止设备污染： 在真空镀膜设备中，使用高纯度气体也有助于减少设备的污染。某些杂质可能在设备内壁或组件上沉积，造成设备的污染并可能对镀膜过程产生负面影响。 综上所述，高纯度气体在真空镀膜过程中的使用有助于确保薄膜的纯净性、均匀性和特性，从而提高薄膜的质量和性能。 |
