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玻璃制品镀膜设备

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玻璃制品镀膜设备.jpg

玻璃真空磁控镀膜机配置先进大功率磁控电源,恒流输出,克服靶中毒。可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。我们的设备是按照客户需求进行定制的,我们会根据您的具体需求定制适合您的设备,具体细节请联系我们。


以下参数仅供参考



参数                型号                数量
                真空室结构                立式前开门,双层或冷却槽冷却

真空室尺寸ф800×1000
                1
抽气速率                1×105Pa~3×10-3Pa≤15min

极限真空≤8×10-4Pa

系统配套                维持泵2X-15                1

机械泵2X-70                1

扩散泵KT-500                1
工件系统                工件系统                    行星式公自转形式(转轴数量8轴,可自定数量)
8
加热方式                边缘安装不锈钢加热管加热
4
离子轰击20KW逆变偏压PLS-20KW                1
磁控靶数量2平面靶
2
磁控电源20KW磁控电源MS-20KW                1
工作方式PLC半自动控制或PC+PLC全自动控制方式

工作气体Ar N2 O2

总功率30KW

压缩空气0.4~0.8MPa

水冷系统                水压/水温:≤25℃/≥0.25MPa(用户自备)


性能:该系列设备主要是使用直流磁控溅射,可适应广泛镀膜靶材,如:铜、钛、铬、不锈钢、镍等金属材料,利用溅射工艺进行镀膜

 

应用范围:应用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业。


产品功能参数全部可以定制定作,部分参数介绍只做参考,我公司可以给您提供您满意的定制产品。


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