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玻璃镀膜设备

玻璃镀膜设备4

玻璃镀膜设备4





玻璃真空磁控镀膜机配置先进大功率磁控电源,恒流输出,克服靶中毒。可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。我们的设备是按照客户需求进行定制的,我们会根据您的具体需求定制适合您的设备,具体细节请联系我们。
以下参数仅供参考
  参数 型号 数量
真空室结构 立式前开门,双层或冷却槽冷却    
真空室尺寸 ф800×1000   1
抽气速率 1×105Pa~3×10-3Pa≤15min    
极限真空 ≤8×10-4Pa    
系统配套 维持泵 2X-15 1
  机械泵 2X-70 1
  扩散泵 KT-500 1
工件系统 工件系统                    行星式公自转形式(转轴数量8轴,可自定数量)   8
加热方式 边缘安装不锈钢加热管加热   4
离子轰击 20KW逆变偏压 PLS-20KW 1
磁控靶数量 2平面靶   2
磁控电源 20KW磁控电源 MS-20KW 1
工作方式 PLC半自动控制或PC+PLC全自动控制方式    
工作气体 Ar N2 O2    
总功率 30KW    
压缩空气 0.4~0.8MPa    
水冷系统 水压/水温:≤25℃/≥0.25MPa(用户自备)    
2.性能:该系列设备主要是使用直流磁控溅射,可适应广泛镀膜靶材,如:铜、钛、铬、不锈钢、镍等金属材料,利用溅射工艺进行镀膜
 
3.应用范围:应用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业。

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